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據(jù)媒體報道，哈工大終于攻克困擾我國已久的光刻機光源難題，成功研制出“高速超精密激光干涉儀”，測量結(jié)果能直接回溯。可以說為上海微電子“光源國產(chǎn)化”問題，貼上最后一片拼圖。

老美高喊“對華脫鉤”，對我國關(guān)鍵芯片技術(shù)、設(shè)備實施禁運和限制。荷蘭作為壟斷光刻機（芯片產(chǎn)業(yè)核心制造機器）的大國，也被老美拉入陣營，想要徹底堵截我們自研芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

沒想到，老美這次是高估了自己、錯判了盟友，小瞧了中國。

01. 美、荷剛剛聯(lián)手，國產(chǎn)光刻機便獲重大突破

目前全球只有荷蘭ASML（阿斯麥）能生產(chǎn)高制程光刻機，完全是賣方市場來主導價格。而光刻機本身就是一種具備了精密儀器、數(shù)學、化學、高分子物理、圖像識別的頂級工業(yè)產(chǎn)物，價格高昂。

華為云研發(fā)專家馬超就曾表示：“如果中國能用 10 億美元直接買到一臺 EUV，我相信華為肯定會毫不猶豫地下單。”

盡管ASML總裁多次表示中國市場十分重要，集團總收入的34%都來自中國，ASML近1/3的員工都是靠中國吃飯。

CNBC網(wǎng)消息，早在2018年的時候，荷蘭ASML（阿斯麥）公司就接受了1.2億美元全款，計劃將EUV光刻機出售給我們。老美代表在荷方會議室整整咆哮了3個小時，要求荷當局與其保持步伐一致，最終ASML公司妥協(xié)，限制DUV、EUV等光刻機出口，堵住了我們的芯片自研之路。

就在國芯嗷嗷待哺、技術(shù)突破迫在眉睫之際，光刻機制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié)終于迎來巨大突破。

近日，國內(nèi)媒體報道，我國哈工大成功研制出了高速超精密激光干涉儀，用于350nm到28nm工藝的光刻機樣機集成研制和性能測試。

光刻機重達幾十噸，里面涉及數(shù)十萬個精密零件、三個大系統(tǒng)。其中，兩大系統(tǒng)國產(chǎn)技術(shù)早已攻破，只有光源技術(shù)系統(tǒng)是最難突破的“高地”，這意味著我國終于突破這一技術(shù)壁壘，完成了DUV光刻機的“最后一張拼圖”。

“微軟之父”比爾蓋茨曾嚴肅地建議，“不要對中國實施技術(shù)圍堵，這非常愚蠢！會迫使他們升級技術(shù)，反噬我們的市場”。可惜無人在意。

三年里，美的圍堵之勢越演越烈，本想一舉摁死我們的芯片產(chǎn)業(yè)，沒想但卻激發(fā)了中企熊熊斗志。2021年度增速最快芯片企業(yè)中，前20家中，有19家來自中國。我國技術(shù)勢如破竹，接連告捷。

光刻機技術(shù)突破前，中芯國際等企業(yè)就已經(jīng)獲得28nm芯片自研技術(shù)的突破，還大力投建工廠，擴大產(chǎn)能，成功補足840億顆進口芯片缺口。

老美對盟友的判斷也接連失策。此前老美不斷對日施壓，要求管控對華芯片出口。然而日方卻陷入兩難，甚至公然叫板：中國在全球供應(yīng)鏈中心的作用無法替代，我們離不開中國市場。一旦失去，損失將會超過2.6萬億人民幣”。

這對這次光刻機突破，外媒接連發(fā)文直言，“差距越來越小了。”

而失去中國市場后，美芯迎來寒冬，多個美企巨頭庫存積壓，芯片賣都賣不出去。高通業(yè)務(wù)受重創(chuàng)，25家美芯巨頭甚至直降90%拋售，也改變不了現(xiàn)狀。至2023年2月，美芯片產(chǎn)業(yè)市值縮水數(shù)萬億。

荷蘭的日子也不好過。光刻機巨頭ASML的總裁頻繁喊話老美，要求解除限制，重回中國市場，“物理技術(shù)就在那里，中國關(guān)鍵技術(shù)持續(xù)突破，再晚他們就造出來了”。

據(jù)悉，目前上海微電子正在與國內(nèi)激光企業(yè)、哈工大等高校共同突破光源“國產(chǎn)化”落地的問題，預(yù)計國產(chǎn)DUV光刻機很快將實現(xiàn)交付。

諸多事實證明，國產(chǎn)技術(shù)走向世界、引領(lǐng)發(fā)展的時代，已經(jīng)提前到來。

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