3 U e, `' Z6 s* B6 G- q
| % {" J) T8 I a
X - 光分析 ( XRD ) – shimadzu XRD-6000 ( 40kv，30mA，step 0.02 deg.，speed 4 deg. / min.ffice or 1 deg. / min.) | ||
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◎晶體結構 | - A4 o8 d1 m+ B3 P
Cubic | |
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◎空間群 | 8 U6 U7 ]% n. Z% _2 w
Fd–ffice:smarttags" /> | |
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◎晶格參數(R.T) | + d7 N; V1 n& w. K5 T; L4 t; F \+ V+ J
(A) 3.570 | |
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◎密度(g/cm3) |
3.508 | |
| # M5 G6 y1 \8 X2 v
◎晶面(111) | - v9 i- X# G0 }7 Z
202 | |
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粗糙度分析 ( SPM ) - Thermo Microscopes CP Research ( 50 μm * 50 μm ) | ||
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◎中心線平均粗糙面Ra ( Ave. Rough ) |
總面積 / 底長86.39 nm霧面，1.052 nm亮面。 | |
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◎中心線均方根粗糙面Rq ( Rms Rough ) |
$ n0 i0 A, c5 z+ h+ d+ k6 \$ T5 S
104.8 nm霧面，1.321 nm亮面。 | |
| 8 h c# S; s* v8 y
◎Rp 250.4 nm霧面，2.592 nm亮面，Rv 189.1 nm霧面，6.156 nm亮面。 | ||
| * ^. }) p$ ~; A [. G& ^
◎高低差異值為 8 nm 亮面。 | ||
% d: @& a% d! ]* N' X7 F: V
. h* k, e& q% {% t8 j2 i
( R' ]; y- p* U" _% F* r9 [
3 B0 q2 `: z0 }, K, ?+ |
1 o, x* [4 K0 M# {6 m6 {
4 {' z2 J9 x e' J; {" L. o; c5 `
7 N9 L0 @+ }, z* V* V3 J
- j4 v) _8 C$ ^- [
圖片:
顆粒顯微分析一
, D5 p# O+ K/ c0 `0 n. c' W; lhttp://images13.51.com/10/a/50/c6/jamesliu8029/c75c1677bcef434a879d7d44eeaad6f9.jpg
顆粒顯微分析二
http://images13.51.com/8/a/50/c6/jamesliu8029/002cc1a954517aaa99a89fa79f5630f6.jpg
* [' t7 n* P9 ~* d' i- e7 B5 V顆粒顯微分析三
http://images13.51.com/10/a/50/c6/jamesliu8029/77da81c0c62a779263590857a6c9a566.jpg
* G* n( Y; x5 f) o顆粒顯微分析四
3 @$ z k* `1 ahttp://images13.51.com/10/a/50/c6/jamesliu8029/f04619a8a3620c771d15dd9e2cde7c39.jpg
顆粒顯微分析五
: _: L) w7 I8 J7 ehttp://images13.51.com/1/a/50/c6/jamesliu8029/9c35afd2e5743f30280c0bdcde90541c.jpg
- @3 j+ \* e9 n' e+ P- a* {* p顆粒顯微分析六
http://images13.51.com/9/a/50/c6/jamesliu8029/45e49448cff9f6edffdd3dfc5fa04ad9.jpg
顆粒顯微分析七
1 i* h1 Q8 q5 khttp://images13.51.com/1/a/50/c6/jamesliu8029/aa0eb2392c3d8a47d29f8e3bb9cebd42.jpg
$ j' y Y8 }" B2 ~
原帖由 滴水天 發表% K) ?$ c3 d: H- r3 U 不懂不懂，請教：這種鉆石薄膜是柔性的嗎？可以做密封件嗎？可以成型嗎？是否有買？價格是否很貴？謝謝。
這是平面剛性材料,因需拋光,才能達到1.052奈米的粗糙度,用於耐磨導靠零件,耐酸鹼，可替代所有超硬材料，現規格是四吋
2 F6 h9 c% v6 }: k可惜不是柔性的!!如有興趣研究者,可與我連系
QQ: 473137404
中國人自行開發的CVD設備
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物理氣相沉積技術(Physical Vapor Deposition縮寫 PVD)
物理氣相沉積應用方式與化學氣相沉積相似，主要有三種製程：蒸鍍（Evaporation Deposition）、離子鍍（Ion Plating）、濺鍍（Sputtering Deposition）及衍生性濺鍍。
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