本帖最后由 twq19810302 于 2023-2-25 10:41 編輯
據媒體報道，哈工大終于攻克困擾我國已久的光刻機光源難題，成功研制出“高速超精密激光干涉儀”，測量結果能直接回溯。可以說為上海微電子“光源國產化”問題，貼上最后一片拼圖。
老美高喊“對華脫鉤”，對我國關鍵芯片技術、設備實施禁運和限制。荷蘭作為壟斷光刻機（芯片產業核心制造機器）的大國，也被老美拉入陣營，想要徹底堵截我們自研芯片產業的發展。
沒想到，老美這次是高估了自己、錯判了盟友，小瞧了中國。
01. 美、荷剛剛聯手，國產光刻機便獲重大突破
目前全球只有荷蘭ASML（阿斯麥）能生產高制程光刻機，完全是賣方市場來主導價格。而光刻機本身就是一種具備了精密儀器、數學、化學、高分子物理、圖像識別的頂級工業產物，價格高昂。
華為云研發專家馬超就曾表示：“如果中國能用 10 億美元直接買到一臺 EUV，我相信華為肯定會毫不猶豫地下單。” 盡管ASML總裁多次表示中國市場十分重要，集團總收入的34%都來自中國，ASML近1/3的員工都是靠中國吃飯。
可惜的是，老美屢屢從中作梗。
CNBC網消息，早在2018年的時候，荷蘭ASML（阿斯麥）公司就接受了1.2億美元全款，計劃將EUV光刻機出售給我們。老美代表在荷方會議室整整咆哮了3個小時，要求荷當局與其保持步伐一致，最終ASML公司妥協，限制DUV、EUV等光刻機出口，堵住了我們的芯片自研之路。
就在國芯嗷嗷待哺、技術突破迫在眉睫之際，光刻機制造的關鍵環節終于迎來巨大突破。
近日，國內媒體報道，我國哈工大成功研制出了高速超精密激光干涉儀，用于350nm到28nm工藝的光刻機樣機集成研制和性能測試。 光刻機重達幾十噸，里面涉及數十萬個精密零件、三個大系統。其中，兩大系統國產技術早已攻破，只有光源技術系統是最難突破的“高地”，這意味著我國終于突破這一技術壁壘，完成了DUV光刻機的“最后一張拼圖”。
02. 封不?。≈袊笫袌鰺o可替代
“微軟之父”比爾蓋茨曾嚴肅地建議，“不要對中國實施技術圍堵，這非常愚蠢！會迫使他們升級技術，反噬我們的市場”。可惜無人在意。
三年里，美的圍堵之勢越演越烈，本想一舉摁死我們的芯片產業，沒想但卻激發了中企熊熊斗志。2021年度增速最快芯片企業中，前20家中，有19家來自中國。我國技術勢如破竹，接連告捷。
光刻機技術突破前，中芯國際等企業就已經獲得28nm芯片自研技術的突破，還大力投建工廠，擴大產能，成功補足840億顆進口芯片缺口。 老美對盟友的判斷也接連失策。此前老美不斷對日施壓，要求管控對華芯片出口。然而日方卻陷入兩難，甚至公然叫板：中國在全球供應鏈中心的作用無法替代，我們離不開中國市場。一旦失去，損失將會超過2.6萬億人民幣”。
03.外媒：對華圍堵，想回去就難了
這對這次光刻機突破，外媒接連發文直言，“差距越來越小了?！?/font>
而失去中國市場后，美芯迎來寒冬，多個美企巨頭庫存積壓，芯片賣都賣不出去。高通業務受重創，25家美芯巨頭甚至直降90%拋售，也改變不了現狀。至2023年2月，美芯片產業市值縮水數萬億。
荷蘭的日子也不好過。光刻機巨頭ASML的總裁頻繁喊話老美，要求解除限制，重回中國市場，“物理技術就在那里，中國關鍵技術持續突破，再晚他們就造出來了”。
據悉，目前上海微電子正在與國內激光企業、哈工大等高校共同突破光源“國產化”落地的問題，預計國產DUV光刻機很快將實現交付。
諸多事實證明，國產技術走向世界、引領發展的時代，已經提前到來。
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發表于 2023-2-25 10:39:57
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