2021年6月,日本眾議院召開(kāi)了一場(chǎng)主題為“復(fù)興日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)”的研討會(huì),時(shí)值在疫情中遭遇重創(chuàng)的鎧俠半導(dǎo)體(即東芝存儲(chǔ)芯片部門(mén))四處尋找接盤(pán)俠,日本存儲(chǔ)芯片最后的火種奄奄一息,日本官方邀請(qǐng)了五位專家學(xué)者暢所欲言,為產(chǎn)業(yè)復(fù)興出謀劃策,壓軸發(fā)言的是一個(gè)名叫湯之上隆的人。
, k2 C5 k3 R$ O2 g; ~6 e
湯之上隆曾任職于日立、爾必達(dá)的一線研發(fā)部門(mén),親歷了日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從輝煌走向沒(méi)落的整個(gè)過(guò)程。2015年,他將自己的經(jīng)歷與思考寫(xiě)進(jìn)了《失去的制造業(yè)》一書(shū),拋開(kāi)其中對(duì)老東家和老領(lǐng)導(dǎo)的冷嘲熱諷,《失去的制造業(yè)》堪稱研究日本芯片產(chǎn)業(yè)的必讀書(shū)目。
" ~# ?8 K: z' o: j2 @1 U! j
相比日本官方高舉復(fù)興大旗,湯之上隆在研討會(huì)上建議大家以最快的速度躺平,讓在場(chǎng)議員們大跌眼鏡:“失去的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已無(wú)法挽回,繼續(xù)投入就是浪費(fèi)納稅人的錢(qián)。”
- v( I2 S5 S7 A/ F% j: G
他認(rèn)為,由于日本的半導(dǎo)體公司一直難以適應(yīng)產(chǎn)業(yè)變化,早已錯(cuò)失歷史機(jī)遇;如今與其瞎折騰,不如守護(hù)好最后一點(diǎn)家底:位于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈最上游的設(shè)備與材料。 一塊芯片封裝前,會(huì)經(jīng)歷薄膜沉淀、光刻、蝕刻、清洗等多項(xiàng)工藝,每一步都需要特定的加工設(shè)備與原材料。過(guò)去數(shù)十年,日本企業(yè)一直是部分半導(dǎo)體設(shè)備的主要提供商。
+ a) {& \# b" I2 `/ e% s! |- q
而日本公司對(duì)半導(dǎo)體材料近乎壟斷的地位更是威名在外:前段工序常用的材料有19種,其中14種都由日本企業(yè)主導(dǎo)。 2019年7月,隨著日韓矛盾加劇,日本政府對(duì)韓國(guó)企業(yè)發(fā)起制裁,限制半導(dǎo)體核心材料的出口。鐵錘剛砸下三天,三星掌門(mén)李在镕如坐針氈,專程趕赴日本懇求松口。 / J9 \9 @0 q3 Z& G; \& R- h
后來(lái)眾議員的研討會(huì)結(jié)束不久,湯之上隆就寫(xiě)了篇文章,標(biāo)題叫“日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料為何那么強(qiáng)?”,自豪之情溢于言表。
: l& G, k% a2 x' Z6 L8 `2 Q1 e% L7 _) {
![]()
, s( a9 y& V h1 R9 L4 Z
- }% p E% n! h+ n0 n! z
極其夸張的市場(chǎng)份額
5 m( K$ Y) S' ]% H( h* o8 ]6 v
結(jié)果文章發(fā)出去沒(méi)多久,日本就吃了一場(chǎng)敗仗。2021年,韓國(guó)的SEMES強(qiáng)勢(shì)崛起,超越日本企業(yè)SCREEN成為全球第六大半導(dǎo)體設(shè)備公司,其母公司正是在材料上被卡的翻白眼的三星。同一時(shí)期,三星一口氣投資了十幾家材料公司,希望在材料環(huán)節(jié)繞開(kāi)日本。 , R) d( W# O1 O8 u
另一個(gè)有趣的現(xiàn)象是,相比輿論對(duì)日本半導(dǎo)體材料壟斷地位的艷羨,以及日本在化學(xué)、材料學(xué)等領(lǐng)域長(zhǎng)期耕耘的贊譽(yù),日本產(chǎn)業(yè)界卻對(duì)這一成就評(píng)價(jià)復(fù)雜: 6 f: m! P. f' s0 a2 b4 N" j
湯之上隆一邊高度認(rèn)可材料環(huán)節(jié)的強(qiáng)勢(shì)地位,但一邊稱日本對(duì)韓國(guó)的斷供“極其愚蠢”。另一位學(xué)者西村吉雄則在《日本電子產(chǎn)業(yè)興衰錄》中說(shuō),日本芯片產(chǎn)業(yè)衰落的原因之一,就是做了太多基礎(chǔ)研究,反而忽視了應(yīng)用和模式層面的創(chuàng)新。
; g3 b& D; [. f! L
日本的半導(dǎo)體材料常常是一個(gè)被輿論神化的產(chǎn)業(yè),它實(shí)際上并不復(fù)雜,但也沒(méi)有那么簡(jiǎn)單。 6 z2 F6 Z, o0 {1 Y
卡脖子 對(duì)韓國(guó)芯片公司而言,日本的貿(mào)易制裁,其威力不亞于往京畿道工廠丟一顆炸彈。
: U3 n0 o* i+ R! P; o
被限制出口的半導(dǎo)體材料共有三種,首當(dāng)其沖的是氟化聚酰亞胺。這個(gè)念起來(lái)有些費(fèi)嘴的化學(xué)物質(zhì),是部分OLED面板的原材料。一旦掐斷供給,OLED電視等拳頭產(chǎn)品將面臨無(wú)貨可出的窘境。
/ Q3 e8 {- e/ ^8 I
但對(duì)三星等韓企來(lái)說(shuō),更棘手的其實(shí)是另外兩件“戰(zhàn)略核武器”。
& J% ?; X" o- x6 M
第一件是EUV光刻膠,打擊目標(biāo)是韓國(guó)半導(dǎo)體的“未來(lái)”。 光刻膠是光刻工藝的關(guān)鍵材料,而光刻又是芯片制造的核心工藝。目前最先進(jìn)的光刻工藝是EUV(極紫外線),用于生產(chǎn)7nm以及更先進(jìn)制程的芯片。 過(guò)去幾年,三星一直在努力迭代自研的手機(jī)處理器Exynos,即便三星自己擁有7nm和5nm制程工藝,但也繞不開(kāi)光刻膠這一環(huán)。此時(shí),作為原材料的光刻膠遭到制裁,本就不富裕的日子變得更加雪上加霜。
% T1 X/ _6 T# m5 L
另外,三星、SK海力士對(duì)下一代DRAM的研發(fā)也將被迫暫停。當(dāng)前,市場(chǎng)上的DRAM產(chǎn)品仍在努力逼近10nm制程,尚且用不上EUV光刻這樣的先進(jìn)技術(shù);但未來(lái)DRAM的制程大概率會(huì)提升至5nm,這便踏進(jìn)了EUV光刻的領(lǐng)域。
* w+ S# n) [3 F% ?9 C( t
![]()
- f5 C, x/ e- P! ~
7 P3 c7 P3 D& L
EUV光刻
8 \! n& k: S# M% h1 N6 I2 M. Q
相比之下,第二把利器殺傷力更甚。這款名叫高純度氟化氫的材料,足以扼住韓國(guó)半導(dǎo)體的“現(xiàn)在”。 氟化氫是一種清洗用的化學(xué)材料。清洗工藝能夠去除芯片生產(chǎn)所帶來(lái)的雜質(zhì),是影響芯片品質(zhì)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。生產(chǎn)一款芯片大概需要500至1000個(gè)步驟,其中大約10%的步驟都得用到氟化氫進(jìn)行清洗,堪稱是半導(dǎo)體的“血液”。
1 ~. z: s n% \' o& } Z* g! D
一旦氟化氫庫(kù)存告急,邏輯半導(dǎo)體(如CPU)、DRAM等主流半導(dǎo)體芯片均無(wú)法生產(chǎn),能否開(kāi)展日常業(yè)務(wù)都將打上一個(gè)問(wèn)號(hào)。
/ K2 V. s, Y+ F3 R
面對(duì)日本的咄咄逼人,危機(jī)感爆棚的韓國(guó)人使出了渾身解數(shù),先是跑去WTO伸冤打官司,與此同時(shí),政府牽頭大搞國(guó)產(chǎn)替代,一口氣投入了6萬(wàn)億韓元的預(yù)算,三星也跟著投資了一批韓國(guó)本土的半導(dǎo)體材料企業(yè)。 + x0 l5 A2 q# ~) l
在“打倒日本帝國(guó)主義”的號(hào)召下,同仇敵愾的韓國(guó)企業(yè)成功研發(fā)出了國(guó)產(chǎn)版本的高純度氟化氫和EUV光刻膠。文在寅卸任前的新年致辭中,曾重點(diǎn)提及了上述成就。 - r& ]# n M+ S
![]()
3 d1 _9 g: o8 _& q; p. ^# P
6 U5 v6 X B) c. n2 c7 B
文在寅視察韓國(guó)產(chǎn)氟化氫 % v% ^" c/ N7 C
然而,故事的走向卻沒(méi)有發(fā)生太多逆轉(zhuǎn):直到如今,日本依舊高度壟斷著高純度氟化氫和EUV光刻膠。 其地位之所以屹立不倒,和上述半導(dǎo)體材料的一大特質(zhì)有關(guān):日本壟斷的材料,多是不能即插即用的非標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品。 其中氟化氫尤為典型——清洗并不是一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)化的工藝,每個(gè)制造商都有各自的理解和流程。因此,關(guān)于氟化氫的使用,實(shí)際上有稀釋、與氯化氫混合、與過(guò)氧化氫混合等多種完全不同的方案。而每種方案對(duì)氟化氫產(chǎn)品的要求又不太一樣,均需要專門(mén)定制。
& m K9 N, _5 n. d7 u/ t6 o# M7 s
另一方面,大多數(shù)產(chǎn)品的理論原理和工藝技術(shù)都是公開(kāi)的,但選材與配比的數(shù)值,甚至生產(chǎn)車(chē)間合適的溫度和濕度,都需要漫長(zhǎng)的實(shí)驗(yàn)才能得到最佳結(jié)果。材料的非標(biāo)特質(zhì),會(huì)帶來(lái)兩方面影響:
9 W+ B: y0 N; X: b! x, y8 D
(1)企業(yè)難以輕易更換解決方案以及相關(guān)供應(yīng)商,一旦合作就是長(zhǎng)期綁定。 在這方面,日本自己就吃過(guò)虧。1999年,日立和NEC兩家龍頭企業(yè)合資成立了存儲(chǔ)企業(yè)爾必達(dá),準(zhǔn)備向領(lǐng)跑的三星發(fā)起進(jìn)攻。但在公司成立的頭兩年,卻爆發(fā)了嚴(yán)重的生產(chǎn)問(wèn)題,市場(chǎng)份額也迅速下跌,而“罪魁禍?zhǔn)住敝徽侨樟⒑蚇EC的清洗方案不兼容。 . s) m( b; b8 L6 ~4 A5 j
因此,哪怕韓國(guó)企業(yè)自研出了高純度氟化氫,依舊不能立刻擺脫日企的壟斷,最快也需要至少1年時(shí)間做測(cè)試;而EUV光刻膠的更換周期則更久,通常需要測(cè)試2-3年才能搬上產(chǎn)線。 5 o0 w) `! A, ]/ a3 f$ T( x6 [9 h L
“有國(guó)產(chǎn)材料”和“用國(guó)產(chǎn)材料”,實(shí)際上是兩件事。 ![]()
' m- C- ]* B& H. w
' l0 }' l# E9 y# q1 O9 v. u# d
氟化氫 4 |0 c c$ s; [
(2)非標(biāo)材料的制造工藝多且繁雜,甚至存在部分只可意會(huì)不可言傳的隱性知識(shí),需要企業(yè)有長(zhǎng)期相關(guān)的積累。在這方面,向來(lái)以“匠人精神”自居、發(fā)力較早的日本同樣有先天優(yōu)勢(shì)。 正如湯之上隆在書(shū)中寫(xiě)道:日本半導(dǎo)體材料的競(jìng)爭(zhēng)力核心,正是日本獨(dú)特的匠人文化。 + [; g1 z2 v6 m; ?
不可否認(rèn),這種“一生做好一件事”的匠人文化,確實(shí)在氟化氫這類具備延續(xù)性的領(lǐng)域頗有成效。氟化氫技術(shù)的迭代,本質(zhì)是不斷提升純度,將小數(shù)點(diǎn)后面的9越做越多的過(guò)程,主打一個(gè)精益求精。 . ~0 Y0 Y' ?# Y% _
韓國(guó)雖實(shí)現(xiàn)了氟化氫的國(guó)產(chǎn)化,但其純度只有99.99999999%(小數(shù)點(diǎn)后8個(gè)9),日本企業(yè)卻能做到小數(shù)點(diǎn)后10個(gè)9。看上去相差無(wú)幾,但如果乘上幾十上百道工序,最終結(jié)果會(huì)千差萬(wàn)別。 3 P( s) h B0 o; T
但問(wèn)題是,難道隔了個(gè)日本海,匠人文化就失傳了嗎?日本半導(dǎo)體材料的強(qiáng)勢(shì),顯然不能只用文化來(lái)解釋。 0 [- R' |7 [: v9 }2 X
日本式的勝利 和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)很多環(huán)節(jié)一樣,光刻膠誕生于美國(guó),柯達(dá)、IBM曾是該市場(chǎng)的領(lǐng)跑者,但最終被日本產(chǎn)業(yè)化。 [0 J5 _- b! O$ Q
從上世紀(jì)80年代開(kāi)始,日本光刻膠產(chǎn)業(yè)突然火力全開(kāi),最終將IBM斬于馬下。這一切的起點(diǎn),始于一個(gè)至今仍被全球反復(fù)研究的項(xiàng)目——VLSI。
" P5 }7 O; | E# b/ H, a
1976年,IBM研發(fā)新一代計(jì)算機(jī)的消息傳來(lái),日本業(yè)界意識(shí)到1μm或更小工藝日趨臨近,深感時(shí)不我待的通產(chǎn)省集結(jié)了富士通、日立、三菱、東芝、NEC五家半導(dǎo)體公司,以及日本工業(yè)技術(shù)研究院、 電子綜合研究所和計(jì)算機(jī)綜合研究所三家機(jī)構(gòu),開(kāi)展了一個(gè)名為VSLI(超大規(guī)模集成電路)的追趕計(jì)劃。
, _, y1 u4 b; }9 Y* ?+ y' ^3 p% H
VLSI最大的成就是DRAM芯片的突破,直接開(kāi)創(chuàng)了日本半導(dǎo)體的黃金年代。但實(shí)際上,VLSI項(xiàng)目共設(shè)有六個(gè)實(shí)驗(yàn)室,除了三個(gè)搞產(chǎn)品研發(fā)的,還有專門(mén)負(fù)責(zé)攻堅(jiān)半導(dǎo)體材料、光刻工藝以及封裝測(cè)試技術(shù)的團(tuán)隊(duì)。其中第四實(shí)驗(yàn)室的科研成果,就是負(fù)性光刻膠。
+ P) u; U; L& \# i, I' B
當(dāng)時(shí),隔壁的第五實(shí)驗(yàn)室成功生產(chǎn)出了縮小投影型光刻裝置。由于材料和設(shè)備兩者互相強(qiáng)綁定,需要一同配套研發(fā),這讓第四實(shí)驗(yàn)室的光刻膠研發(fā)掃除了最大的障礙。
1 \ \1 t( n8 E1 J& q
VLSI最大的成果,實(shí)際上是通過(guò)市場(chǎng)規(guī)模巨大的DRAM的突破,創(chuàng)造了一套國(guó)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈,擺脫了對(duì)美國(guó)的設(shè)備依賴。包括做材料的京瓷和住友,做光罩的TOPPAN,做封測(cè)的東京電子,和做光刻機(jī)的尼康。
! g$ X, m: W, w7 E7 \
![]()
9 Q4 p% t! O. e1 s
1 u2 Z) o2 _6 p( }) i" s
光刻膠 90年代,KrF開(kāi)始成為光刻膠的主流路線。此時(shí),尼康推出了全球首個(gè)實(shí)現(xiàn)商業(yè)化應(yīng)用的KrF光刻機(jī)系統(tǒng),隔壁的光刻膠企業(yè)趁勢(shì)追趕。從2000年開(kāi)始,隨著光刻膠路線開(kāi)始往ArF和EUV轉(zhuǎn)向,日本又迅速和新任光刻機(jī)龍頭ASML建立了深度綁定,雙方配套研發(fā)、共同迭代。 ( J# z9 ^4 }! S9 i
由于和產(chǎn)業(yè)鏈的深度綁定,不論技術(shù)路線如何變化,日本光刻膠都有機(jī)會(huì)領(lǐng)跑。 9 N9 { @! `, {7 f
另一個(gè)推手則是日本產(chǎn)業(yè)界對(duì)基礎(chǔ)科研的極端重視。雖然大多數(shù)新技術(shù)都在日本產(chǎn)業(yè)化,但日本社會(huì)普遍不滿足于生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)的成功,尤其是以貝爾實(shí)驗(yàn)室為代表的大公司研究院模式,更是被日本反復(fù)學(xué)習(xí)效仿。 1 L1 [7 \+ W7 w o, N1 |2 y
彼時(shí),日本主流思潮認(rèn)為:如果能在基礎(chǔ)科學(xué)上也保持領(lǐng)先,日本將長(zhǎng)期立于不敗之地。 90年代后,日本經(jīng)濟(jì)陷入長(zhǎng)期衰退,日本官方再次下場(chǎng),希望通過(guò)對(duì)基礎(chǔ)研究的投入復(fù)蘇半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。1995年,日本出臺(tái)了《科學(xué)技術(shù)基本法》,并計(jì)劃此后每年往科學(xué)領(lǐng)域投入4萬(wàn)億至5萬(wàn)億日元。
1 A I- |) l7 e8 r) ^8 _! p: j
2001年,日本政府提出,希望到2050年,日本能誕生30個(gè)諾貝爾獎(jiǎng)。此后20年,日本足足有16人獲得了三大自然科學(xué)類諾貝爾獎(jiǎng),位居全球第三,其中6個(gè)屬于和半導(dǎo)體材料強(qiáng)相關(guān)的化學(xué)領(lǐng)域。 依靠在基礎(chǔ)科研上的長(zhǎng)期投入,日本一直維持著半導(dǎo)體材料市場(chǎng)的霸主地位,并且將領(lǐng)先蔓延到了動(dòng)力電池產(chǎn)業(yè)。2019年,吉野彰獲得了諾貝爾化學(xué)獎(jiǎng),他的一大成就是發(fā)現(xiàn)了鋰電池負(fù)極材料,日本企業(yè)則是該領(lǐng)域的領(lǐng)跑者之一。另外,松下也是動(dòng)力電池最主要的生產(chǎn)商之一。
0 c: p, N/ I6 H7 p
但讓日本產(chǎn)業(yè)界始終難以介懷的是,與半導(dǎo)體材料的凱歌高奏相反,日本的傳統(tǒng)優(yōu)勢(shì)項(xiàng)目存儲(chǔ)、面板、芯片制造等環(huán)節(jié),卻始終止步不前,成為了電子產(chǎn)業(yè)黃金年代中尷尬的旁觀者。 U1 d4 V5 c* g% @9 @
得到的與失去的 2023年3月,韓國(guó)總統(tǒng)尹錫悅出訪日本,宣告自2019年開(kāi)始的日韓貿(mào)易戰(zhàn)結(jié)束。韓國(guó)不少聲音認(rèn)為,尹錫悅已經(jīng)舉白旗投降——因?yàn)闋?zhēng)端源頭是歷史遺留問(wèn)題催生的民族矛盾,但他上臺(tái)后卻對(duì)這些問(wèn)題閉口不談,更主動(dòng)對(duì)日本示好,無(wú)疑是“滑跪”的體現(xiàn)。 % ~$ F0 G. V+ D- F* O/ }
然而湯之上隆并不這么認(rèn)為。他公開(kāi)表示,制裁正在親手摧毀日本的氟化氫產(chǎn)業(yè),堪稱“歷史性的愚策”,因?yàn)槿毡就瑯痈叨纫蕾図n國(guó)市場(chǎng)。 ) l1 t2 {6 d2 L' d3 r4 q. t
事實(shí)也是如此,日本財(cái)務(wù)省統(tǒng)計(jì)的出口數(shù)據(jù)顯示,2011年之后,韓國(guó)一直是日本氟化氫的最大出口國(guó),并占據(jù)了總出口量的90%以上。由于氟化氫難以輕易替換,一旦合作便是長(zhǎng)期綁定;但反過(guò)來(lái)說(shuō),一旦三星鐵了心要搞國(guó)產(chǎn)替代,日本氟化氫也會(huì)失去最主要的收入來(lái)源。
' c9 n: p/ `$ K% J) W5 h& t3 b0 k; Q4 ]
而這種影響已經(jīng)開(kāi)始出現(xiàn)。2019年之前,日本氟化氫的對(duì)韓出口量大約在每月3000噸左右。此后,日本雖然解除了出口限制,但直到2023年年初,這個(gè)數(shù)字依舊只有約500噸。 : @+ S. K9 x& [$ A9 v! l8 l+ W
![]()
% e" X' W! x" ]) k4 l
& H; B4 `/ L) ]
日本氟化氫對(duì)韓出口變化
1 Q# F+ l7 ]" A2 B" g2 D
這種“傷敵一千,自損一千二”的現(xiàn)象,反映了整個(gè)半導(dǎo)體材料行業(yè)的尷尬處境:戰(zhàn)略價(jià)值大,但戰(zhàn)術(shù)價(jià)值小。 材料雖是芯片生產(chǎn)的必需品,但市場(chǎng)規(guī)模“僅有”643億美元(2021年),相比之下,日本人失去的存儲(chǔ)和面板市場(chǎng),規(guī)模都高達(dá)1600億美元和1300億美元(2021年)。這還沒(méi)算上曾是日本傳統(tǒng)優(yōu)勢(shì)項(xiàng)目——被蘋(píng)果、高通、英偉達(dá)等公司占據(jù)的消費(fèi)電子市場(chǎng)。 $ E. u8 T( C: X. K
因此高情商的說(shuō)法是,幾百億規(guī)模的半導(dǎo)體材料,足以影響下游上萬(wàn)億規(guī)模的電子市場(chǎng);但低情商的說(shuō)法是,市場(chǎng)規(guī)模也就這么大。 1 T6 J# ~6 _! P1 Q
這也是日本產(chǎn)業(yè)界無(wú)法釋?xiě)训脑颍?strong>相比他們失去的存儲(chǔ)、面板、芯片制造和消費(fèi)電子市場(chǎng),材料領(lǐng)域的霸權(quán)實(shí)在是太微不足道了。 在《日本電子產(chǎn)業(yè)興衰錄》一書(shū)中,對(duì)于日本政府和企業(yè)在科研上的大手筆投入,作者西村吉雄非但不覺(jué)得驕傲,反而認(rèn)為對(duì)科研的癡迷導(dǎo)致日本半導(dǎo)體公司錯(cuò)過(guò)了90年代電子產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)型大潮。他提出了一個(gè)很有代表性的觀點(diǎn):日本公司很擅長(zhǎng)研究“怎么做”,卻疏于判斷“做什么”。 西村吉雄認(rèn)為,基礎(chǔ)科學(xué)固然重要,但日本對(duì)此有些過(guò)度迷信,把“創(chuàng)新”與“技術(shù)突破”混為一談。在書(shū)中,他通過(guò)英特爾的例子來(lái)論證,其成功恰恰不是依賴于科學(xué)研究,而是打造了“技術(shù)封閉+標(biāo)準(zhǔn)開(kāi)放”的生態(tài),任何開(kāi)發(fā)者都可以基于x86架構(gòu)與Windows系統(tǒng)開(kāi)發(fā)軟件,最終成為了消費(fèi)電子時(shí)代的霸主。
8 n# j# C) t! u% q6 U U; B. z
微處理器(CPU)等邏輯半導(dǎo)體的出現(xiàn),其實(shí)和基礎(chǔ)科學(xué)的進(jìn)步無(wú)關(guān),更多是受到了市場(chǎng)需求的推動(dòng)。日本對(duì)基礎(chǔ)科學(xué)的癡迷,最終導(dǎo)致它與一個(gè)千億美金的市場(chǎng)失之交臂。 * q; _6 L# [5 X, B# m
后來(lái),湯之上隆又在《失去的制造業(yè)》里補(bǔ)充一個(gè)生動(dòng)鮮活的案例: 6 K4 q9 d. G% @, E* d& j+ g
被三星打到破產(chǎn)的爾必達(dá),其實(shí)在技術(shù)上遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)三星。比如爾必達(dá)的512M DRAM的良品率可以達(dá)到98%,三星只有83%,但問(wèn)題是,把成品率從80%提高到95%需要付出巨大的成本。相比三星2005年30%的利潤(rùn)率,爾必達(dá)只有3%。
, L% `+ B) ?0 F; h1 w
2008年,行業(yè)進(jìn)入下行周期,三星故意擴(kuò)產(chǎn)進(jìn)一步壓低價(jià)格,爾必達(dá)虧到親媽不認(rèn)。在破產(chǎn)的發(fā)布會(huì)上,CEO坂本幸雄仍然念叨著“爾必達(dá)技術(shù)世界第一”。 8 r- }, ?! @& K7 w
湯之上隆在《失去的制造業(yè)》中總結(jié)了日本強(qiáng)勢(shì)產(chǎn)業(yè)的幾個(gè)特點(diǎn),其中最重要的一點(diǎn)是:日本公司擅長(zhǎng)在一條長(zhǎng)坡厚雪的賽道做持續(xù)的創(chuàng)新,而不善于面對(duì)頻繁的技術(shù)變化。 前者的代表是燃油車(chē)、鋰電池和半導(dǎo)體材料這類“干中學(xué)、學(xué)中干”色彩強(qiáng)烈的產(chǎn)業(yè),后者則是他們失去的存儲(chǔ)和面板。無(wú)論是市場(chǎng)地位、公司營(yíng)收,還是創(chuàng)造的利稅、崗位與附加值,半導(dǎo)體材料都無(wú)法和后者相比擬。 ; [6 c) `! D% ~& _0 s1 C4 w. i
尾聲 20世紀(jì)80年代,西方世界對(duì)東亞經(jīng)濟(jì)騰飛的解讀仍以新自由主義為底色,日本政府頗有微詞,豪擲120萬(wàn)美元考察費(fèi),邀請(qǐng)世界銀行專家“客觀分析”日本模式成功的原因。1993年,世行出版了針對(duì)東亞后發(fā)經(jīng)濟(jì)體的研究報(bào)告《東亞奇跡》,扭扭捏捏的承認(rèn)了“政府主導(dǎo)產(chǎn)業(yè)升級(jí)”的益處。
0 ^- A3 k2 | m* S7 X
報(bào)告發(fā)表一年后,美國(guó)經(jīng)濟(jì)學(xué)家保羅·克魯格曼(Paul Krugman)在《外交雜志》上潑了一盆冷水,稱日本“并非經(jīng)濟(jì)奇跡的典型”,亞洲四小虎更是紙老虎:"亞洲的繁榮是高投入創(chuàng)造的數(shù)量增長(zhǎng),而非效率提升,建立于浮沙之上,遲早會(huì)幻滅 。" * u4 R$ ^! {$ a) |2 k8 q9 G6 O
80年代也是日本產(chǎn)業(yè)界自我反省的高峰期,日本人認(rèn)為,自己不應(yīng)該滿足于將誕生于美國(guó)技術(shù)產(chǎn)業(yè)化,而是應(yīng)該效仿美國(guó)企業(yè)設(shè)立研究院,在基礎(chǔ)科研上百尺竿頭更進(jìn)一步,在下一次技術(shù)浪潮中拔得頭籌。
$ s4 ~! i4 N) l
直到今天,日本企業(yè)的科研投入仍保持在全球一線梯隊(duì):2019年,日本企業(yè)的研發(fā)投入占該年度GDP的3.51%,位居全球第三。 陰差陽(yáng)錯(cuò)的是,在長(zhǎng)久的經(jīng)濟(jì)衰退中,日本的優(yōu)勢(shì)產(chǎn)業(yè)被韓國(guó)、中國(guó)大陸和臺(tái)灣地區(qū)瓜分殆盡,在日本人眼里,產(chǎn)業(yè)上游的霸權(quán)地位,更像是某種體面的撤退。
5 j) v$ V7 [2 Q n* ^# E
日本在半導(dǎo)體材料上的霸權(quán)依然穩(wěn)固,但他們更加在意的是,夏普的龜山屏、東芝的Dynabook和索尼的Walkman,曾一次又一次驚艷過(guò)世界。
+ J1 v8 g- V6 f2 m+ B& L$ Y
基礎(chǔ)科研與所謂“應(yīng)用創(chuàng)新”,本質(zhì)上并無(wú)高低優(yōu)劣之分,長(zhǎng)周期高投入的科研與商業(yè)利益的平衡從來(lái)都難以取舍。但歸根結(jié)底,創(chuàng)新的目的不是為了卡誰(shuí)的脖子,而是通過(guò)提高定價(jià)權(quán)獲得更高的產(chǎn)業(yè)附加值,繼而通過(guò)高收入崗位的創(chuàng)造與財(cái)富再分配,改善更多普通人的生活。 |